采用單晶硅壓阻技術,性能穩定,精度可達0.075%FS + 隔膜系統的影響;
高過載保護膜片,實現大壓力過載保護功能;
采用高性能 EMC 防護(hu)電路(lu)模塊,有效降低(di)電磁擾動對產品(pin)的(de)輸出影響。
采用單晶硅壓阻技術,性能穩定,精度可達±0.075%FS + 隔膜系統的影響;
高過載保護膜片,實現大壓力過載保護功能;
采用(yong)高性能 EMC 防護(hu)電(dian)路模塊,有效降低電(dian)磁(ci)擾動(dong)對產品的輸出影響。
采用單晶硅壓阻技術,性能穩定,精度可達0.075%FS + 隔膜系統的影響;
高過載保護膜片,實現大壓力過載保護功能;
采用高性能 EMC 防護(hu)電路模(mo)塊,有(you)效降低電磁(ci)擾動對產(chan)品的輸(shu)出影響。
采用單晶硅壓阻技術,性能穩定,精度可達0.1%FS;
高過載保護膜片,實現大壓力過載保護功能;
采用高(gao)性(xing)能 EMC 防(fang)護電(dian)路模塊,有(you)效降低電(dian)磁擾(rao)動(dong)對產品(pin)的輸(shu)出影響。
采用單晶硅壓阻技術,性能穩定,精度可達0.075%FS;
高過載保護膜片,實現大壓力過載保護功能;
采用高性能 EMC 防護電路模塊,有效降低電磁擾動對產品的輸出影響;
穩定性強可達 ±0.1%SPAN/5 年。